台灣半導體產業的高純水需求
在半導體製程中，超純水（UPW）與化學液過濾系統，是維持製程穩定的重要環節。隨著先進製程持續升級，晶圓廠對水質潔淨度與設備穩定性的要求也越來越高。若過濾系統出現濾芯阻塞、壓差異常或監測不即時，不僅可能影響製程穩定，更可能增加停機與維護成本，因此即時掌握過濾設備狀態，已成為半導體廠的重要管理課題。
1. 客戶背景
台灣積體電路製造股份有限公司（TSMC 台積電）持續擴建先進製程廠區，並同步導入大型水處理與公用系統工程，以滿足半導體製程對超純水與流體控制的高標準需求。由於製程中需長時間使用大量超純水與化學液體，因此水處理系統中的過濾設備與循環系統，皆需維持穩定運作。
2. 客戶難題
半導體水處理系統需 24 小時連續運轉，過濾設備在長時間使用後，濾芯容易因雜質累積而產生壓差變化。若無法即時掌握差壓狀態，可能導致濾芯阻塞、流量下降、設備能耗增加，甚至提高非預期停機風險，同時也增加巡檢與維護負擔。
3. 客戶需求
為提升水處理系統管理效率與設備穩定性，客戶希望導入可即時監測過濾器壓差的監測設備，並具備接點警報功能、耐腐蝕能力與長時間穩定運行特性，同時降低人工巡檢負擔，提升維護效率與安全性。
4. 解決方案
針對現場需求，SJ 炘珈儀錶提供「接點式差壓錶」作為水處理過濾系統監測方案，可同步監測過濾器前後壓力差，快速判斷濾芯堵塞狀況。
當差壓超過設定值時，可透過接點輸出即時警報訊號，方便整合 PLC 與控制系統。
產品採用大型刻度錶盤設計，方便現場人員快速辨識壓力狀態，並使用不鏽鋼結構提升耐腐蝕性與設備穩定性，適合半導體水處理、UPW 超純水系統、化學液過濾與公用工程系統等應用環境。
5. 總結
SJ 炘珈儀錶提供的接點式差壓監測方案，可協助台積電水處理系統即時掌握過濾設備運行狀態，快速判斷濾芯壓損變化，降低非預期停機風險。
透過差壓監測與警報功能，不僅提升設備管理效率，也有效減少人工巡檢負擔，更符合半導體產業對高穩定性與高可靠性的設備需求。
