- Sistema de aislamiento de doble diafragma
- Componentes en contacto con el fluido de PFA y mPTFE
- Salida de 4 a 20 mA, sistema de 2 hilos
- Rotación del transductor de 360° después de la instalación.
- IP65 o IP67; pantalla acoplable opcional
Manómetro de diafragma de flujo continuo para aplicaciones de ultra alta presión (UHP).
Modelo: 432.25.2
- Cámara de flujo continuo sin espacio muerto
- Fácil enjuague del recorrido del medio filtrante
- Tasa de fuga de helio ≤ 10⁻⁹ mbar · l/s
- Carcasa y cámara electropulidas, Ra ≤ 0,25 μm
- Conexiones para sistemas de gas de ultra alta pureza
- Servicio posventa receptivo / Personalizable
- Alta calidad / Un año de garantía
- Las imágenes del producto son solo de referencia. Las especificaciones finales se basan en el pedido confirmado.
Descripción
WIKA 432.25.2 uses a flow-through measuring chamber for pressure indication in ultra high purity gas and liquid lines. The chamber avoids dead space and is designed for effective rinsing.
The 2-inch gauge combines electropolished 316L construction with helium leak testing. Select the process connections and mounting orientation to suit the gas distribution or equipment hook-up.
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- Interfaz EtherCAT mediante SDP 5003.2080
- Visualización de la presión local y compensación activa de la temperatura.
- Datos digitales de presión, temperatura y diagnóstico
- Compatibilidad con transferencia de firmware e intercambio en caliente.
- Dos puertos RJ45 para redundancia de cable.
Modelo: HYDRA-Gauge (HG)Manómetro de presión HYDRA de ultra alta pureza para productos químicos líquidos.
- Sistema de aislamiento de doble diafragma
- Componentes en contacto con el fluido de PFA y mPTFE
- Calibre de acero inoxidable con revestimiento de teflón negro.
- Rotación del indicador de 360° después de la instalación.
- Contactos de alarma electrónicos opcionales
Modelo: 432.10, 432.15Manómetro de diafragma mini para aplicaciones de ultra alta presión (UHP).
- Diseño de diafragma compacto para espacios de instalación reducidos.
- El bajo volumen interno ayuda a reducir la retención de partículas.
- Tasa de fuga de helio ≤ 10⁻⁹ mbar · l/s
- Cámara de medición y superficie del diafragma electropulidas, Ra < 0,25 μm
- Conexión de proceso 316L con junta metálica y cámara de medición soldada orbitalmente